5月9日音书，据集微网报说念，“据报说念，上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)自主研发的系列28nm浸没式DUV光刻机，近日完成首批批量托福，参加量产工艺考证阶段。”在该音书发布之后，坐窝激勉了业内的热议。但是，芯智讯在历程与光刻机及晶圆制造企业联系东说念主士疏导后发现，该著作里面安分容似乎存在不少事实问题。1、集微的报说念并未给出具体的信源，只说“据报说念”，到底是据哪家确切的媒体报说念，根底没提。这不允洽这种新闻的严肃性。

2、报说念称“2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上，初次官宣SSA800系列完了全面量产。”

但是，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”根底莫得任何巨擘媒体的联系报说念，也查不到具体的举办时期、方位、主持方及与会嘉宾和企业。更别说什么“上海微电子官宣”了，上海微电子的官方从未精采裸露过上述音书。

固然网上概况找到本年1月一些自媒对于“长三角半导体产业峰会”的音书，但是也一齐王人是与“上海微电子官宣SSA800系列量产”绑定的信息。那时，笔者也关系注到过这个音书，但是认为是“小作文”，商场也有过一轮基于这个音书炒作光刻机认识股。

3、报说念还指出“2026年3月，在SEMICON China2026海外半导体博览会上，上海微电子初次公开展示了该机型。”

关联词，芯智讯在SEMICON China2026海外半导体博览会有去过上海微电子的展台，现场根底就莫得展示所谓的样机。并且在展会时间和展会终结后的一段时期，也根底莫得联系媒体报说念此事。

△芯智讯在SEMICON China2026展会上海微电子展台拍摄的像片

4、报说念称“SSA800系列收受193nm ArF浸没式光刻技能，单次曝光原生撑握28nm制程，轮盘APP可通过多重曝光工艺褂讪完了 14nm 乃至更先进的工艺分娩。开采套刻精度端正在2.3~2.5nm，量产良率褂讪在90%~95%区间，每小时可科罚150片晶圆。”

据芯智讯了解，SSA800实际上等于近几年商场一直外传的国产“28nm光刻机”，是一款193nm ArF浸没式光刻机，对目的是ASML TWINSCAN NXT:1950i。尔后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，搀杂匹配套刻精度为3.5nm，每小时可科罚200片晶圆。是以，说SSA800系列套刻精度端正在2.3~2.5nm，每小时可科罚150片晶圆，应该是大差不差。

不外，说SSA800系列的“量产良率褂讪在90%~95%区间”似乎是有点离谱了。因为光刻机自己并莫得所谓的“量产良率”的说法。

一位光刻机厂商里面东说念主士对芯智讯直言：“这是假音书，光刻机那里来的良率。”即便说的是在产线上替代ASML光刻机后芯片最终产出的量产良率也很夸张。

要知说念台积电的28nm是在2011年量产的，之后资格较长的良率爬坡阵痛期。2012年上半年，英伟达和高通王人曾公开诉苦良率不及、产能吃紧。到2012年8月，中国台湾媒体财征引供应商音书称良率已进步至跳跃80%。

一位国内晶圆代工场里面东说念主士告诉芯智讯，当今SSA800系列并未参加国内的买卖化晶圆厂，似乎仍是在“ICRD”进行测考试证。是以何来的量产批量托福，何来的“90%~95%”量产良率？

期盼国产光刻机获得打破，是每一个柔软中国科技发展的东说念主最朴素的脸色。咱们渴慕看到“卡脖子”清单上的技俩被一项项划掉，也渴慕听到国产开采在先进制程上获得打破的音书。但是，这种渴慕越是历害，就越应该守住感性的底线。伪善的、自嗨的音书，伤害的是公众对确切说明的判断力，也贬抑了产业链坎坷游一步一个脚印攻坚的严肃性。真确的解围，从来不需要靠伪善的“放卫星”来证明我方，时期会给出最浑厚的谜底。

剪辑：芯智讯-浪客剑轮盘游戏App(中国)官方下载